制備多晶硅用鑄錠爐
基本信息

| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN200620031881.4 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)(公告)號(hào) | CN200968773Y | 公開(kāi)(公告)日 | 2007-10-31 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN200968773Y | 申請(qǐng)公布日 | 2007-10-31 |
| 分類號(hào) | F27B14/08(2006.01) | 分類 | 爐;窯;烘烤爐;蒸餾爐〔4〕; |
| 發(fā)明人 | 高文秀 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 南陽(yáng)迅天宇硅品有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 鄭州聯(lián)科專利事務(wù)所 | 代理人 | 上海普羅新能源有限公司;南陽(yáng)迅天宇硅品有限公司 |
| 地址 | 200092上海市虹口區(qū)赤峰路501弄2號(hào)302 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 制備多晶硅用鑄錠爐,包括置于中間的鑄錠坩堝,坩堝外扣設(shè)加熱罩,加熱罩外扣設(shè)與其聯(lián)接的保溫罩,坩堝底部設(shè)有水冷卻循環(huán)系統(tǒng),加熱罩中自下而上設(shè)有分層加熱元件。加熱罩中自下而上設(shè)有側(cè)面五層、頂面一層共六層加熱元件。坩堝底部或/和保溫罩頂部設(shè)有升降機(jī)構(gòu)。本實(shí)用新型可實(shí)現(xiàn)對(duì)硅水的均勻加熱和定向勻速冷卻。 |





