一種紅外窗口增透保護結構及其制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202011051048.7 申請日 -
公開（公告）號 CN112080722A 公開（公告）日 2020-12-15
申請公布號 CN112080722A 申請公布日 2020-12-15
分類號 C23C14/06(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 張美奇;趙培 申請（專利權）人 昆明奧夫特光電技術有限公司
代理機構 無錫派爾特知識產權代理事務所（普通合伙） 代理人 楊立秋
地址 650000云南省昆明市市轄區(qū)滇中新區(qū)大板橋街道云水路1號A2棟416-44號辦公室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及光學薄膜技術領域，具體涉及一種紅外窗口增透保護結構及其制備方法，該結構包括增透層、基底和保護層，基底的一側附著有增透層，另一側附著有保護層；增透層自基底起依次包括第一鍺層、第一硫化鋅層、第二鍺層和第二硫化鋅層；保護層自基底起依次包括鍺砷硒層和類金剛石層，本發(fā)明提供了一種紅外窗口增透保護結構及其制備方法，鍺砷硒層作為類金剛石層和基底層之間唯一的中間層，一方面增加了窗口的光學透過性，另一方面減小了膜層間的應力，解決了無法在硫族材料上沉積類金剛石膜的問題。??