一種LED芯片用鍵合襯底的制備方法
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN201610203193.X | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN105762263A | 公開(公告)日 | 2016-07-13 |
| 申請公布號 | CN105762263A | 申請公布日 | 2016-07-13 |
| 分類號 | H01L33/62(2010.01)I;H01L33/00(2010.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 云峰;郭茂峰;蘇喜林 | 申請(專利權(quán))人 | 陜西新光源科技有限責(zé)任公司 |
| 代理機構(gòu) | 西安通大專利代理有限責(zé)任公司 | 代理人 | 陜西新光源科技有限責(zé)任公司 |
| 地址 | 710077 陜西省西安市雁塔區(qū)錦業(yè)路125號西安半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)園103號廠房 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種LED芯片用鍵合襯底的制備方法,包括以下步驟:1)在起始鍵合襯底上制備犧牲層金屬;2)對起始鍵合襯底上的犧牲層金屬利用退火工藝進行表面改性處理,在鍵合襯底和犧牲層金屬間形成過渡層金屬;3)腐蝕去除起始鍵合襯底上剩余犧牲層金屬;4)在過渡層金屬上制備永久鍵合金屬層,以形成最終的鍵合襯底。4)在過渡層金屬上制備永久鍵合金屬層,以形成最終的鍵合襯底。本發(fā)明提供的一種LED芯片用鍵合襯底的制備方法,在起始鍵合襯底表面制備犧牲層金屬結(jié)構(gòu),通過處理形成過渡層金屬,起到降低起始鍵合襯底與外延片間的熱膨脹系數(shù)差的作用。 |





