一種用于真空鍍膜的霧化加熱裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202122497570.4 申請日 -
公開（公告）號 CN216427388U 公開（公告）日 2022-05-03
申請公布號 CN216427388U 申請公布日 2022-05-03
分類號 C23C14/24（2006.01）I;C23C14/12（2006.01）I;B05D1/00（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 李小彭;姜翠寧;高文波 申請（專利權(quán)）人 浙江生波智能裝備有限公司
代理機構(gòu) 中山卓融知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 彭國軍;趙釗
地址 314499浙江省嘉興市海寧市海寧經(jīng)濟開發(fā)區(qū)芯中路6號4幢
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型提供一種用于真空鍍膜的霧化加熱裝置，包括用于對液態(tài)有機鍍膜材料進行霧化的霧化裝置以及用于對霧化后的有機鍍膜材料進行汽化的加熱裝置，加熱裝置包括與霧化裝置相連通的加熱箱體和設(shè)于加熱箱體上且用于對加熱箱體進行加熱的加熱組件，加熱箱體的一側(cè)設(shè)有噴口。本發(fā)明采用上述結(jié)構(gòu)，實現(xiàn)了對液態(tài)有機鍍膜材料的霧化及汽化過程，汽化后的有機鍍膜材料可均勻地附著并涂覆于基材的表面上，成膜的過程在真空環(huán)境下完成，其適用范圍廣，可以獲得較薄的鍍膜層，也可以滿足厚膜的需要，其均勻性容易控制，效率高，并且可以獲得均勻性高和更高膜層性能的薄膜。