一種硅晶片清洗裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201921843890.7 申請日 -
公開（公告）號 CN210995512U 公開（公告）日 2020-07-14
申請公布號 CN210995512U 申請公布日 2020-07-14
分類號 B08B3/02(2006.01)I 分類 -
發(fā)明人 朱汪龍;朱玲 申請（專利權(quán)）人 無錫樂東微電子有限公司
代理機構(gòu) 南京經(jīng)緯專利商標(biāo)代理有限公司 代理人 徐爾東
地址 214028江蘇省無錫市新吳區(qū)景賢路52號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型一種硅晶片清洗裝置，包括清洗腔室以及底座，還包括清洗機構(gòu)、轉(zhuǎn)動機構(gòu)、排水機構(gòu)，其中：清洗機構(gòu)包括進水裝置以及若干噴水裝置，進水裝置通過軟管與若干噴水裝置連接，若干噴水裝置等距固定安裝在清洗腔室內(nèi)腔頂部；轉(zhuǎn)動機構(gòu)包括轉(zhuǎn)動軸、軸承以及若干卡框，若干卡框固定設(shè)在轉(zhuǎn)動軸上，軸承設(shè)于轉(zhuǎn)動軸兩端且位于清洗腔室側(cè)壁腔內(nèi)；排水機構(gòu)包括若干出水口、排水口、斜板，若干出水口設(shè)置在清洗腔室底部，斜板斜設(shè)在底座內(nèi)及若干出水口下方，斜板尾端與底座側(cè)壁連接處開設(shè)有排水口；本實用新型可以對硅晶片進行全方位清洗，且便于安裝拆卸，整體結(jié)構(gòu)簡單，成本低。??