一種蒸發(fā)源

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202110321264.7 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN113061848A 公開（公告）日 2021-07-02
申請(qǐng)公布號(hào) CN113061848A 申請(qǐng)公布日 2021-07-02
分類號(hào) C23C14/24 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 張久杰;季淵 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 南京昀光科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京品源專利代理有限公司 代理人 孟金喆
地址 211100 江蘇省南京市江寧區(qū)梅林街18號(hào)(江寧開發(fā)區(qū))
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明實(shí)施例提供一種蒸發(fā)源，該蒸發(fā)源包括坩堝、加熱絲和多個(gè)半導(dǎo)體制冷片；所述加熱絲圍繞所述坩堝分布，多個(gè)所述半導(dǎo)體制冷片設(shè)置于所述加熱絲遠(yuǎn)離所述坩堝的一側(cè)，且多個(gè)所述半導(dǎo)體制冷片沿環(huán)繞所述坩堝的方向依次排列；每一所述半導(dǎo)體制冷片包括冷端和熱端，所述冷端用于制冷，所述熱端用于制熱；所述半導(dǎo)體制冷片包括第一制冷片和第二制冷片，所述第一制冷片的冷端設(shè)置于鄰近所述坩堝的一側(cè)，所述第二制冷片的熱端設(shè)置于鄰近所述坩堝的一側(cè)。本發(fā)明實(shí)施例提供的蒸發(fā)源，能夠提高蒸發(fā)源的升溫速率和降溫速率。