掩膜版、硅基OLED顯示面板及其制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110231858.9 申請日 -
公開（公告）號 CN113036064A 公開（公告）日 2021-06-25
申請公布號 CN113036064A 申請公布日 2021-06-25
分類號 H01L51/56;H01L51/00;H01L27/32;B41M5/00 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 張久杰;季淵 申請（專利權(quán)）人 南京昀光科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京品源專利代理有限公司 代理人 孟金喆
地址 211100 江蘇省南京市江寧區(qū)梅林街18號（江寧開發(fā)區(qū)）
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明實施例提供了一種掩膜版、硅基OLED顯示面板及其制備方法，其中掩膜版包括掩膜版本體，掩膜版本體包括開孔區(qū)，開孔區(qū)包括多個開孔，開孔采用激光打孔工藝形成。采用激光打孔工藝形成的開孔尺寸較小，利用掩膜版掩膜時可以形成滿足硅基OLED顯示面板中發(fā)光器件尺寸的發(fā)光層，進(jìn)而使得采用該掩膜版進(jìn)行發(fā)光層制備后可以形成不同顏色的發(fā)光層，使得硅基OLED顯示面板無需設(shè)置濾光層，進(jìn)而提高硅基OLED顯示面板的透過率；相應(yīng)的，硅基OLED顯示面板中發(fā)光器件無需太高的發(fā)光亮度即可保證正常彩色顯示，進(jìn)而降低硅基OLED顯示面板的功耗。