具有工藝管壓力控制裝置的半導(dǎo)體熱處理設(shè)備及控制方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201610921266.9 申請日 -
公開（公告）號 CN106505016B 公開（公告）日 2020-02-14
申請公布號 CN106505016B 申請公布日 2020-02-14
分類號 H01L21/67;H01L21/324 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 穆曉航;鐘結(jié)實;王凱;楊帥 申請（專利權(quán)）人 北方華創(chuàng)科技集團(tuán)股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海天辰知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（特殊普通合伙） 代理人 北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司;北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司
地址 100176 北京市經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)文昌大道8號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種具有工藝管壓力控制裝置的半導(dǎo)體熱處理設(shè)備及控制方法，通過將壓力控制器原有的一個采樣點增加為兩個采樣點，其中一個采樣點可繼續(xù)采集工藝管排氣端的壓力，另一個采樣點用于采集承載區(qū)域內(nèi)的壓力，并增加在工藝的不同階段對第一、第二采樣點進(jìn)行切換的功能，實現(xiàn)不同工藝步驟對工藝管內(nèi)壓力的不同控制方法，從而可在滿足原有的工藝壓力控制需求的前提下，實現(xiàn)在工藝過程的升降舟階段避免承載區(qū)域內(nèi)氣體進(jìn)入工藝管的控制目標(biāo)，減少了氣流沖擊對工藝產(chǎn)品表面膜厚均勻性的影響。