HVPE密閉式手動(dòng)加鎵裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202022168536.8 申請(qǐng)日 -
公開(公告)號(hào) CN213327939U 公開(公告)日 2021-06-01
申請(qǐng)公布號(hào) CN213327939U 申請(qǐng)公布日 2021-06-01
分類號(hào) C30B23/02(2006.01)I;C30B29/40(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I;C30B29/42(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I 分類 晶體生長(zhǎng)〔3〕;
發(fā)明人 李枝旺;王亮 申請(qǐng)(專利權(quán))人 鎵特半導(dǎo)體科技(銅陵)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 銅陵市嘉同知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 代理人 吳晨亮
地址 244000安徽省銅陵市經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)天門山北道3139號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了HVPE密閉式手動(dòng)加鎵裝置,它包括:鎵容器(1);鎵舟(2),所述鎵舟位于鎵容器下方;第一手動(dòng)閥門(3),所述第一手動(dòng)閥門連通于鎵容器底部;第二手動(dòng)閥門(4),所述第二手動(dòng)閥門分別與第一手動(dòng)閥門和鎵舟連通;第一氣動(dòng)閥(5),所述第一氣動(dòng)閥一端接入在第一手動(dòng)閥門和第二手動(dòng)閥門之間,另一端與外界連通。本實(shí)用新型的有益效果是利用控制系統(tǒng),實(shí)現(xiàn)密閉人工加鎵,能很好的去除加鎵裝置的空氣和加鎵過程中空氣的進(jìn)入。大大改善了因加鎵污染腔體的環(huán)境。更好地保證反應(yīng)腔反應(yīng)環(huán)境同時(shí)提高了產(chǎn)品的良率,減小了不必要的生產(chǎn)成本。而且所用裝置的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單消耗件少,更有效地降低生產(chǎn)成本。??