自動(dòng)凈化HVPE取片艙環(huán)境系統(tǒng)

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202021897595.2 申請(qǐng)日 -
公開(公告)號(hào) CN213327929U 公開(公告)日 2021-06-01
申請(qǐng)公布號(hào) CN213327929U 申請(qǐng)公布日 2021-06-01
分類號(hào) C30B25/08(2006.01)I;C30B25/14(2006.01)I;C30B29/40(2006.01)I 分類 晶體生長〔3〕;
發(fā)明人 李枝旺;王亮 申請(qǐng)(專利權(quán))人 鎵特半導(dǎo)體科技(銅陵)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 銅陵市嘉同知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 代理人 程玉霞
地址 244000安徽省銅陵市經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)天門山北道3139號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了自動(dòng)凈化HVPE取片艙環(huán)境系統(tǒng),它包括:反應(yīng)腔(1);取片艙(2);所述取片艙安裝于反應(yīng)腔底部;閘閥(3),所述閘閥安裝于反應(yīng)腔底部和取片艙頂部之間;排氣控制系統(tǒng),所述排氣控制系統(tǒng)分別與反應(yīng)腔和取片艙連通。本實(shí)用新型的有益效果是本實(shí)用新型的有益效果是設(shè)計(jì)了一種含反應(yīng)腔、閘閥、氣動(dòng)閥、泵、排氣控制系統(tǒng)的裝置,最大限度解決上、下片污染腔體環(huán)境而導(dǎo)致每次上、下片生長前幾爐生長質(zhì)量相對(duì)差等問題。??