一種抗蝕劑下層膜單體和組合物及圖案形成方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201910387117.2 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN110054594B 公開（公告）日 2021-07-13
申請(qǐng)公布號(hào) CN110054594B 申請(qǐng)公布日 2021-07-13
分類號(hào) C07D265/16;C07D498/20;C07D265/12;C07D498/04;C07D498/22;C08G61/02;G03F1/56 分類 有機(jī)化學(xué)〔2〕;
發(fā)明人 王靜;肖楠 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 福建泓光半導(dǎo)體材料有限公司
代理機(jī)構(gòu) 廈門市精誠(chéng)新創(chuàng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 賴秀華
地址 363005 福建省漳州市高新區(qū)九湖鎮(zhèn)林前村林前773號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明屬于光刻領(lǐng)域，具體涉及一種抗蝕劑下層膜單體和組合物及圖案形成方法。所述抗蝕劑下層膜組合物含有結(jié)構(gòu)如式（1）所示的抗蝕劑下層膜單體、芳香族聚合物以及溶劑；式（1）中，X為氧原子、硫原子或兩個(gè)獨(dú)立的氫原子；不同位置的m各自獨(dú)立地為0或1；R1和R2各自獨(dú)立地為氫、C1?C8的烷基、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的苯基；R3?R6各自獨(dú)立地為氫原子、帶有或不帶有雜原子的具有1?10個(gè)碳原子的直鏈、支鏈、單環(huán)或多環(huán)的不飽和基團(tuán)；R3和R4、R5和R6能夠選擇性彼此獨(dú)立連接，形成環(huán)狀。本發(fā)明提供的抗蝕劑下層膜組合物具有高耐刻蝕性和耐熱性。