一種CVD工作臺(tái)旋轉(zhuǎn)裝置及CVD裝置
基本信息

| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202210382788.1 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)(公告)號(hào) | CN114686859A | 公開(kāi)(公告)日 | 2022-07-01 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN114686859A | 申請(qǐng)公布日 | 2022-07-01 |
| 分類號(hào) | C23C16/458(2006.01)I;C23C16/52(2006.01)I | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 孫利;朱佰喜;薛抗美;蔣彪;楊偉峰 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 廣州志橙半導(dǎo)體有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京中和立達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | - |
| 地址 | 510700廣東省廣州市黃埔區(qū)(中新廣州知識(shí)城)億創(chuàng)街1號(hào)406房之337(僅限辦公) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明提供了一種CVD工作臺(tái)旋轉(zhuǎn)裝置及CVD裝置,CVD工作臺(tái)旋轉(zhuǎn)裝置包括:旋轉(zhuǎn)工作臺(tái),所述旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)包括:主動(dòng)旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)和從動(dòng)旋轉(zhuǎn)工作臺(tái),所述主動(dòng)旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)和從動(dòng)旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)外側(cè)均鑲嵌齒套,主動(dòng)旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)的齒套和從動(dòng)旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)的齒套嚙合;所述主動(dòng)旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)通過(guò)主傳動(dòng)軸轉(zhuǎn)動(dòng)連接在爐體內(nèi),所述主動(dòng)傳動(dòng)軸與驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)連接。用來(lái)解決制件相對(duì)于氣場(chǎng)固定不動(dòng)的情況,放置在旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)上的工裝治具架在旋轉(zhuǎn)過(guò)程中充當(dāng)了扇葉的作用攪動(dòng)了腔室內(nèi)的原有氣場(chǎng),使其能更好的在腔體內(nèi)行成一個(gè)相對(duì)穩(wěn)定擴(kuò)散的氣場(chǎng),制件在氣場(chǎng)內(nèi)保持一定的速度旋轉(zhuǎn)與反應(yīng)氣體充分接觸,從而使反應(yīng)氣體得以有足夠的使用效率。 |





