化學(xué)氣相沉積裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202023142188.3 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN215887227U 公開（公告）日 2022-02-22
申請(qǐng)公布號(hào) CN215887227U 申請(qǐng)公布日 2022-02-22
分類號(hào) C23C16/54（2006.01）I;C23C16/46（2006.01）I;C23C16/52（2006.01）I;C23C16/458（2006.01）I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 吳銘欽;劉峰 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 蘇州雨竹機(jī)電有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京科龍寰宇知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 代理人 李懷周
地址 215000江蘇省蘇州市中國（江蘇）自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)蘇州片區(qū)蘇州工業(yè)園區(qū)蘇虹中路39號(hào)2幢2樓西側(cè)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種化學(xué)氣相沉積裝置，包括一基板座、一主加熱系統(tǒng)及一輔助加熱系統(tǒng)。該主加熱系統(tǒng)是用以將該基板座以及在該基板座上的基板的溫度加熱至一預(yù)設(shè)值。該輔助加熱系統(tǒng)是用以將該基板的各個(gè)部位的溫度從該預(yù)設(shè)值加熱至各自的溫度目標(biāo)值。該輔助加熱系統(tǒng)可以局部加熱基板的各個(gè)部位，以使基板的各個(gè)部位的溫度相同或不同。