薄膜沉積旋轉(zhuǎn)盤(pán)系統(tǒng)
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202022409947.1 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN214736079U | 公開(kāi)（公告）日 | 2021-11-16 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN214736079U | 申請(qǐng)公布日 | 2021-11-16 |
| 分類(lèi)號(hào) | C23C16/458（2006.01）I;C23C14/50（2006.01）I;C23C16/455（2006.01）I | 分類(lèi) | 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 吳銘欽;劉峰 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 | 蘇州雨竹機(jī)電有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京市萬(wàn)慧達(dá)律師事務(wù)所 | 代理人 | 劉艷麗 |
| 地址 | 215000江蘇省蘇州市自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)蘇州片區(qū)蘇州工業(yè)園區(qū)蘇虹中路39號(hào)2幢2樓西側(cè) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本公開(kāi)為一種薄膜沉積旋轉(zhuǎn)盤(pán)系統(tǒng)，包括機(jī)臺(tái)，機(jī)臺(tái)上設(shè)有至少一晶圓凹座，其內(nèi)設(shè)有一碟盤(pán)，且碟盤(pán)上設(shè)有晶圓容置槽。碟盤(pán)中央還穿設(shè)有晶圓升降裝置，其包括一頂柱穿設(shè)在一套管內(nèi)。機(jī)臺(tái)上還設(shè)有一第一輸氣通道，以輸送氣體至套管的輸氣穿孔中，令套管內(nèi)的頂柱根據(jù)氣體的流量大小升降，以將晶圓容置槽上的晶圓頂出。機(jī)臺(tái)上還設(shè)有一排氣通道，當(dāng)頂柱位于套管內(nèi)的高度超過(guò)排氣穿孔時(shí)，氣體可由套管上的排氣穿孔排出至排氣通道，以調(diào)節(jié)頂柱的升降高度，等到流量與頂柱的高度平衡后，機(jī)械手臂即可進(jìn)入夾取晶圓。本公開(kāi)有助于機(jī)械手臂取放晶圓，有效因應(yīng)自動(dòng)化生產(chǎn)的需求，提升生產(chǎn)效率。 |
