氣體反應裝置
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202022911811.0 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN214736074U | 公開(公告)日 | 2021-11-16 |
| 申請公布號 | CN214736074U | 申請公布日 | 2021-11-16 |
| 分類號 | C23C16/455(2006.01)I;C23C16/458(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I | 分類 | 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學處理;金屬材料的擴散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 吳銘欽;劉峰 | 申請(專利權)人 | 蘇州雨竹機電有限公司 |
| 代理機構 | 北京科龍寰宇知識產(chǎn)權代理有限責任公司 | 代理人 | 李林 |
| 地址 | 215000江蘇省蘇州市中國(江蘇)自由貿(mào)易試驗區(qū)蘇州片區(qū)蘇州工業(yè)園區(qū)蘇虹中路39號2幢2樓西側 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本實用新型為一種氣體反應裝置,其應用于面下型(Face Down)的化學氣相沉積反應技術。氣體反應裝置包括一反應腔以及一基板承載裝置,基板承載裝置設置在反應腔內的上部。氣體反應裝置特征在于,基板承載裝置與反應腔之間形成一快速氣流通道,且快速氣流通道的高度大于0毫米且小于或等于5毫米。本實用新型將快速氣流通道的高度縮減至提供5毫米,以提升快速氣流通道內氣體流通的速率,減少基板上雜質沉降以及氣體的消耗。 |





