基于商空間和知識源融合的光刻工序套刻指標預(yù)報方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201410805067.2 申請日 -
公開（公告）號 CN105223782B 公開（公告）日 2017-10-24
申請公布號 CN105223782B 申請公布日 2017-10-24
分類號 G03F7/20(2006.01)I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 劉民;王志超;董明宇;郝井華 申請（專利權(quán)）人 正大業(yè)恒生物科技（上海）有限公司
代理機構(gòu) - 代理人 -
地址 100084 北京市海淀區(qū)清華園
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 基于商空間和知識源融合的光刻工序套刻指標預(yù)報方法，屬于先進制造、自動化和信息領(lǐng)域，其特征在于，針對微電子生產(chǎn)線中光刻設(shè)備套刻不準導(dǎo)致產(chǎn)品返工的問題，提出一種基于商空間和知識源融合的光刻工序套刻指標預(yù)報方法。首先，將晶圓的多個套刻指標的歷史數(shù)據(jù)作為不同的知識源；并將其融合得到一個待優(yōu)化的知識源融合模型，該模型的輸出為上述多個套刻指標；然后，將上述模型進行極分解得到三個低秩因子，并對每一個低秩因子進行對稱變換得到等價類因子；最后，在商空間使用交替方向最優(yōu)化策略對每一個等價類因子進行優(yōu)化，通過上述對知識源融合模型的優(yōu)化過程可實現(xiàn)對多個套刻指標的協(xié)同建模。本發(fā)明方法可用于對多個套刻指標進行聯(lián)合預(yù)報。