基于商空間和知識(shí)源融合的光刻工序套刻指標(biāo)預(yù)報(bào)方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201410805067.2 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN105223782A 公開（公告）日 2016-01-06
申請(qǐng)公布號(hào) CN105223782A 申請(qǐng)公布日 2016-01-06
分類號(hào) G03F7/20(2006.01)I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 劉民;王志超;董明宇;郝井華 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 正大業(yè)恒生物科技（上海）有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 100084 北京市海淀區(qū)清華園
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 基于商空間和知識(shí)源融合的光刻工序套刻指標(biāo)預(yù)報(bào)方法，屬于先進(jìn)制造、自動(dòng)化和信息領(lǐng)域，其特征在于，針對(duì)微電子生產(chǎn)線中光刻設(shè)備套刻不準(zhǔn)導(dǎo)致產(chǎn)品返工的問(wèn)題，提出一種基于商空間和知識(shí)源融合的光刻工序套刻指標(biāo)預(yù)報(bào)方法。首先，將晶圓的多個(gè)套刻指標(biāo)的歷史數(shù)據(jù)作為不同的知識(shí)源；并將其融合得到一個(gè)待優(yōu)化的知識(shí)源融合模型，該模型的輸出為上述多個(gè)套刻指標(biāo)；然后，將上述模型進(jìn)行極分解得到三個(gè)低秩因子，并對(duì)每一個(gè)低秩因子進(jìn)行對(duì)稱變換得到等價(jià)類因子；最后，在商空間使用交替方向最優(yōu)化策略對(duì)每一個(gè)等價(jià)類因子進(jìn)行優(yōu)化，通過(guò)上述對(duì)知識(shí)源融合模型的優(yōu)化過(guò)程可實(shí)現(xiàn)對(duì)多個(gè)套刻指標(biāo)的協(xié)同建模。本發(fā)明方法可用于對(duì)多個(gè)套刻指標(biāo)進(jìn)行聯(lián)合預(yù)報(bào)。