一種測量裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202111491246.X 申請日 -
公開（公告）號 CN114199142A 公開（公告）日 2022-03-18
申請公布號 CN114199142A 申請公布日 2022-03-18
分類號 G01B11/06（2006.01）I;G01B11/16（2006.01）I;G01B11/24（2006.01）I;G01N29/07（2006.01）I 分類 測量；測試;
發(fā)明人 王戈;陳魯鐵;陳復(fù)明;周海英 申請（專利權(quán)）人 上海中晨數(shù)字技術(shù)設(shè)備有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京品源專利代理有限公司 代理人 郭利娜
地址 100102北京市朝陽區(qū)望京阜通東大街8號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種測量裝置，涉及測量設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域。該測量裝置包括機(jī)架、承載機(jī)構(gòu)、掃描機(jī)構(gòu)、第一測量機(jī)構(gòu)和第二測量機(jī)構(gòu)。承載機(jī)構(gòu)設(shè)在機(jī)架上，承載機(jī)構(gòu)用于承載試樣。掃描機(jī)構(gòu)可活動地設(shè)在機(jī)架上，掃描機(jī)構(gòu)與試樣之間具有間隙，掃描機(jī)構(gòu)用于測量試樣的截面尺寸。第一測量機(jī)構(gòu)可活動地設(shè)在機(jī)架上，第一測量機(jī)構(gòu)與試樣之間具有間隙，第一測量機(jī)構(gòu)用于測量試樣各區(qū)域的厚度參數(shù)。第二測量機(jī)構(gòu)可活動地設(shè)在機(jī)架上。該測量裝置能夠降低試樣的測量難度，提高試樣的測量精度和測量效率，特別適合軟體材料、變截面產(chǎn)品的非接觸式無損三維尺寸的快速測量、動態(tài)彈性模量表征以及后期全尺寸范圍的自定義形變計算。