一種凹陷式類單晶籽晶鑄錠熔化結(jié)晶工藝
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN201710019679.2 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN106591937B | 公開(公告)日 | 2019-11-26 |
| 申請公布號 | CN106591937B | 申請公布日 | 2019-11-26 |
| 分類號 | C30B11/04(2006.01); C30B29/06(2006.01) | 分類 | 晶體生長〔3〕; |
| 發(fā)明人 | 王強; 尤敏; 陳云; 鄧潔; 朱海峰; 章國安 | 申請(專利權(quán))人 | 南通大學(xué)技術(shù)轉(zhuǎn)移中心有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 南京瑞弘專利商標事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 南通大學(xué) |
| 地址 | 226019 江蘇省南通市嗇園路9號南通大學(xué)6號樓205 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種凹陷式塊狀類單晶籽晶鑄錠熔化結(jié)晶工藝,包括如下步驟:(1)單晶硅籽晶的制備及裝料階段;(2)單晶硅籽晶鑄錠熔化階段;(3)類單晶長晶階段。本發(fā)明的特點在于當(dāng)硅料熔液從頂部向底部流動經(jīng)過阻擋層時,會沿著晶磚的凹陷角度向坩堝中心流動。這樣就可以避免因為鑄錠爐的加熱器位于坩堝頂部和四壁,坩堝壁處的溫度較高,導(dǎo)致坩堝壁處的硅溶液沿著坩堝壁向下流動,接觸籽晶層造成邊側(cè)籽晶層熔穿的現(xiàn)象。同時,緩沖層向中心流動的硅熔液可以提高坩堝中心的溫度,避免了在中心處的籽晶層未熔化的現(xiàn)象,采用了降溫速率控制工藝,實現(xiàn)了鑄錠工藝的優(yōu)化。 |





