一種TFT?LCD屏制造過程中光刻膠的去除方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201710851757.5 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN107885048A 公開（公告）日 2018-04-06
申請(qǐng)公布號(hào) CN107885048A 申請(qǐng)公布日 2018-04-06
分類號(hào) G03F7/42;H01L27/12 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 白航空 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 長沙惠科金揚(yáng)科技有限責(zé)任公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 230000 安徽省合肥市新站區(qū)九頂山路與奎河路交口東北角
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種TFT?LCD屏制造過程中光刻膠的去除方法，包括以下步驟：在材料層的特定部分上方形成光刻膠圖案以暴露出離子注入?yún)^(qū)，利用光學(xué)線寬測(cè)量?jī)x器測(cè)量高電流離子注入后的摻雜的光刻膠層的厚度，基于離子注入前的光刻膠層的厚度獲得未摻雜的光刻膠層的厚度，建立測(cè)量高電流離子注入后的光學(xué)線寬測(cè)量數(shù)據(jù)庫；針對(duì)所述摻雜的光刻膠層的厚度和未摻雜的光刻膠層的厚度，分別設(shè)置刻蝕工藝的工藝參數(shù)；利用先進(jìn)制程控制系統(tǒng)執(zhí)行所述刻蝕工藝，在工藝過程中利用先進(jìn)制程控制系統(tǒng)實(shí)施反饋，在第一溫度下使用包含二酰亞胺（N2H2）的氣體混合物等離子體移除所述光刻膠層；在高于所述第一溫度的第二溫度下，使用所述N2H2和O2的等離子體移除所述光刻膠層。