一種鑄錠爐散熱結構
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN201620882513.4 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN206089880U | 公開(公告)日 | 2017-04-12 |
| 申請公布號 | CN206089880U | 申請公布日 | 2017-04-12 |
| 分類號 | C30B28/06(2006.01)I;C30B29/06(2006.01)I | 分類 | 晶體生長〔3〕; |
| 發(fā)明人 | 左濤;潘家明;左銓;劉茂華;周自謙;溫德星 | 申請(專利權)人 | 河南華沐通途新能源科技有限公司 |
| 代理機構 | 鄭州大通專利商標代理有限公司 | 代理人 | 河南華沐通途新能源科技有限公司 |
| 地址 | 450008 河南省鄭州市鄭東新區(qū)眾旺路19號天明國際B座1101 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本實用新型涉及鑄錠爐技術領域,具體涉及一種鑄錠爐散熱結構,包括保溫層,所述保溫層分為上保溫層和下保溫層;所述保溫層內(nèi)部設有石英坩堝,石英坩堝底部設有底板,石英坩堝四周設有側板,底板下方設有DS塊;所述下保溫層中間卡固有一塊帶有若干個孔的第一石墨板和緊貼第一石墨板底面與下保溫層滑動設置的第二石墨板,所述第二石墨板上開設有與第一石墨板上的孔相對應的孔;所述第二石墨板通過安裝于爐體外側的伺服電機驅動其進行前后移動;所述第二石墨板的下方設有散熱銅盤。本實用新型使熱量能夠均勻的輻射到散熱銅盤上,保證散熱的均勻性,使坩堝底部形成一個均勻的溫度梯度,以保證硅錠能夠均勻豎直的生長。 |





