一種數(shù)字化激光直寫曝光機(jī)分區(qū)對位方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202111671014.2 申請日 -
公開（公告）號 CN114200786A 公開（公告）日 2022-03-18
申請公布號 CN114200786A 申請公布日 2022-03-18
分類號 G03F7/20（2006.01）I;G03F9/00（2006.01）I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 白國梁;梅文輝;汪孝軍;羅覃東 申請（專利權(quán)）人 中山新諾科技股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京匯智勝知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 趙立軍
地址 528437廣東省中山市火炬開發(fā)區(qū)明珠路3號之一
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種數(shù)字化激光直寫曝光機(jī)分區(qū)對位方法。所述方法包括：S1、制作一次曝光資料，其中，在矩形的一次曝光圖的兩側(cè)，根據(jù)相機(jī)視野布置多個(gè)mark點(diǎn)；S2、在第一曝光機(jī)臺上對基板曝光一次曝光資料；S3、制作二次曝光資料；S4、選取四個(gè)角落mark點(diǎn)作為對位點(diǎn)，生成對位數(shù)據(jù)；S5、根據(jù)一次曝光機(jī)臺的掃描軸軌跡添加對位點(diǎn)；S6、將所述基板放置在第二曝光機(jī)臺上，通過對位相機(jī)獲取基板上作為對位點(diǎn)的mark點(diǎn)的實(shí)際坐標(biāo)數(shù)據(jù)；S7、根據(jù)所述作為對位點(diǎn)的mark點(diǎn)的實(shí)際坐標(biāo)數(shù)據(jù)與理論坐標(biāo)數(shù)據(jù)，對二次曝光圖形進(jìn)行分區(qū)對位漲縮、旋轉(zhuǎn)與偏移，使得二次曝光圖形貼合于一次曝光圖形。