一種用于硅片清洗系統(tǒng)的純水加熱、補(bǔ)給系統(tǒng)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202120967298.9 申請日 -
公開（公告）號 CN215278867U 公開（公告）日 2021-12-24
申請公布號 CN215278867U 申請公布日 2021-12-24
分類號 B08B3/10（2006.01）I;H01L21/67（2006.01）I 分類 清潔;
發(fā)明人 王福壽;吳旸 申請（專利權(quán)）人 蘇州協(xié)鑫光伏科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 南京蘇高專利商標(biāo)事務(wù)所（普通合伙） 代理人 高艷敏
地址 215253江蘇省蘇州市蘇州高新區(qū)五臺山路169號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種用于硅片清洗系統(tǒng)的純水加熱、補(bǔ)給系統(tǒng)，自前端向后端依次包括中水換熱部分、空壓機(jī)換熱部分和自動加熱補(bǔ)給部分，所述中水換熱部分用于完成自純水站輸出的純水和中水之間的換熱；所述空壓機(jī)換熱部分用于中水換熱部分輸出的純水與空壓機(jī)之間的換熱；所述自動加熱補(bǔ)給部分用于將空壓機(jī)換熱部分輸出的純水加熱至目標(biāo)溫度，最后將目標(biāo)溫度純水輸出到硅片清洗系統(tǒng)中。本實(shí)用新型的純水加熱、補(bǔ)給系統(tǒng)是相對于硅片清洗系統(tǒng)獨(dú)立設(shè)置的集中加熱系統(tǒng)，具備獨(dú)立的集中供水泵浦及管路系統(tǒng)。與原有純水管路系統(tǒng)分開，加熱效率顯著提升，減少補(bǔ)水時對正常工作機(jī)臺的影響，同時縮短補(bǔ)水時間，能夠顯著提升產(chǎn)能。