一種硅片粉塵誤判為線痕的過濾系統(tǒng)及過濾方法
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202110482238.2 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN113232179A | 公開(公告)日 | 2021-08-10 |
| 申請公布號 | CN113232179A | 申請公布日 | 2021-08-10 |
| 分類號 | B28D5/04;B28D7/00;G01B11/22 | 分類 | 加工水泥、黏土或石料; |
| 發(fā)明人 | 吳亮亮 | 申請(專利權(quán))人 | 蘇州協(xié)鑫光伏科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 南京蘇高專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 張弛 |
| 地址 | 215253 江蘇省蘇州市蘇州高新區(qū)五臺山路169號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明公開一種硅片粉塵誤判為線痕的過濾系統(tǒng),包括激光檢測模塊、粉塵誤判過濾模塊,激光檢測模塊獲取檢測硅片至少兩個位置的線痕值,粉塵誤判過濾模塊用于將檢測硅片中線痕比率大于修正系數(shù)的最大線痕值過濾,輸出次大線痕值,線痕比率為檢測硅片的最大線痕值與次大線痕值的比值,所述修正系數(shù)為合格硅片最大線痕值上限加上灰塵直徑后與次大線痕值上限的比值。通過粉塵誤判過濾模塊對主要產(chǎn)生影響的灰塵等附著物疊加計算的線痕值進(jìn)行過濾,有效減少線痕值不良的誤判率,過濾過程自動化程度高,過濾精度高,實用性強(qiáng)。 |





