動(dòng)態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器及其制作方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202110720222.0 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN113506775A | 公開(kāi)（公告）日 | 2021-10-15 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN113506775A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-10-15 |
| 分類(lèi)號(hào) | H01L21/8242（2006.01）I;H01L27/108（2006.01）I | 分類(lèi) | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 朱寶;陳琳;孫清清;尹睿;張衛(wèi) | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 | 上海集成電路制造創(chuàng)新中心有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 上海恒銳佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 黃海霞 |
| 地址 | 201203上海市浦東新區(qū)碧波路690號(hào)401-23室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明提供了一種動(dòng)態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器，包括襯底、晶體管、介質(zhì)疊層、電容器和導(dǎo)電柱，所述晶體管設(shè)置于所述襯底的上表面，所述介質(zhì)疊層設(shè)置于所述襯底的上表面，且部分所述介質(zhì)疊層包覆所述晶體管，所述導(dǎo)電柱設(shè)有若干個(gè)，且所述導(dǎo)電柱分別與所述晶體管和所述電容器電接觸，所述電容器設(shè)置于所述介質(zhì)疊層，且所述電容器的底部與所述襯底的上表面的最小軸向距離大于0，使得降低了半導(dǎo)體襯底對(duì)電容器的電學(xué)干擾，從而可以增大電容器的品質(zhì)因子，減少漏電流，避免了動(dòng)態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器占據(jù)較大空間，保證了動(dòng)態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器具有較大的存儲(chǔ)密度。本發(fā)明提供了所述動(dòng)態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器的制作方法。 |
