電磁屏蔽構件的制備方法和電磁屏蔽構件
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202110933970.7 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN113825376A | 公開(公告)日 | 2021-12-21 |
| 申請公布號 | CN113825376A | 申請公布日 | 2021-12-21 |
| 分類號 | H05K9/00(2006.01)I | 分類 | 其他類目不包含的電技術; |
| 發(fā)明人 | 蘇偉;胡守榮;韋士彩;葉宗和 | 申請(專利權)人 | 深圳市志凌偉業(yè)光電有限公司 |
| 代理機構 | 深圳市世紀恒程知識產權代理事務所 | 代理人 | 陳小娟 |
| 地址 | 518000廣東省深圳市龍華區(qū)觀瀾街道大富社區(qū)大富工業(yè)區(qū)11號鵬龍蟠高科技園B棟廠房301、401 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明公開一種電磁屏蔽構件的制備方法和電磁屏蔽構件,其中電磁屏蔽構件的制備方法包括以下步驟:提供可透光的基板;以及在所述基板上形成有呈網格狀的第一屏蔽模塊;其中,所述第一屏蔽模塊包括第一接著層、第一導電層和第一吸光層,所述第一接著層層疊于所述基板,所述第一導電層層疊于所述第一接著層的背離所述基板的一側,所述第一吸光層設置于所述第一導電層,所述第一接著層可透光,所述第一屏蔽模塊的第一網孔至少貫穿所述第一導電層和所述第一吸光層。本發(fā)明的技術方案旨在制造出具有透光性的電磁屏蔽構件。 |





