一種磁控濺射裝置及磁控濺射系統(tǒng)

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201621197024.1 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN206273836U 公開（公告）日 2017-06-23
申請(qǐng)公布號(hào) CN206273836U 申請(qǐng)公布日 2017-06-23
分類號(hào) C23C14/35;C23C14/54 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 徐興;李澤宇;周媛;魏志英 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 廣漢川冶新材料有限責(zé)任公司
代理機(jī)構(gòu) 北京超凡志成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 李佳
地址 618000 四川省德陽市廣漢市新豐鎮(zhèn)古城村九社
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型提供了一種磁控濺射裝置及磁控濺射系統(tǒng)，屬于半導(dǎo)體制備領(lǐng)域。該磁控濺射裝置包括殼體，殼體內(nèi)設(shè)置有磁靶、靶材組件、用于安裝基材的爐盤和用于調(diào)整靶材組件與基材之間的磁場強(qiáng)度的緩沖組件。磁靶固定于殼體的內(nèi)壁并用于提供磁場，爐盤設(shè)置于殼體的內(nèi)壁并用于安裝基材，靶材組件設(shè)置于磁靶并與爐盤相對(duì)設(shè)置。緩沖組件設(shè)置于靶材組件和磁靶之間，緩沖組件包括驅(qū)動(dòng)裝置和至少兩個(gè)依次疊放的調(diào)整板，每個(gè)調(diào)整板通過驅(qū)動(dòng)裝置移入或移出工作區(qū)域。這種磁控濺射裝置和磁控濺射系統(tǒng)，能夠通過緩沖組件有效的解決了現(xiàn)有的通過手動(dòng)方式調(diào)節(jié)磁場強(qiáng)度的精度不高的問題，提高生產(chǎn)效率及半導(dǎo)體薄膜的質(zhì)量。