大斜切角異質(zhì)襯底-氮化鎵復(fù)合結(jié)構(gòu)
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202023214124.X | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN213635904U | 公開(kāi)（公告）日 | 2021-07-06 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN213635904U | 申請(qǐng)公布日 | 2021-07-06 |
| 分類(lèi)號(hào) | H01L21/02 | 分類(lèi) | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 王國(guó)斌;王建峰;畢文剛;徐科 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 | 江蘇第三代半導(dǎo)體研究院有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 南京利豐知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（特殊普通合伙） | 代理人 | 趙世發(fā) |
| 地址 | 215000 江蘇省蘇州市工業(yè)園區(qū)金雞湖大道99號(hào)蘇州納米城中北區(qū)23幢214室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型公開(kāi)了一種大斜切角異質(zhì)襯底?氮化鎵復(fù)合結(jié)構(gòu)。所述大斜切角異質(zhì)襯底?氮化鎵復(fù)合結(jié)構(gòu)包括：大斜切角異質(zhì)襯底以及設(shè)置在所述大斜切角異質(zhì)襯底上的氮化鎵緩沖層、二維氮化鎵層、三維島狀氮化鎵層和氮化鎵材料層。本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種大斜切角異質(zhì)襯底?氮化鎵復(fù)合結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單且生長(zhǎng)工藝簡(jiǎn)單、生長(zhǎng)條件易于調(diào)節(jié)，所述大斜切角異質(zhì)襯底?氮化鎵復(fù)合結(jié)構(gòu)的質(zhì)量更好、表面平整度更高。 |
