高K值低殘留單體聚合物粉末及其制備方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202011185195.3 申請(qǐng)日 -
公開(公告)號(hào) CN112225835A 公開(公告)日 2021-01-15
申請(qǐng)公布號(hào) CN112225835A 申請(qǐng)公布日 2021-01-15
分類號(hào) C08F6/00(2006.01)I;C08L39/06(2006.01)I 分類 有機(jī)高分子化合物;其制備或化學(xué)加工;以其為基料的組合物;
發(fā)明人 孫旭東;張軍偉;張森林;呂利紅;張德棟;王軍 申請(qǐng)(專利權(quán))人 博愛新開源醫(yī)療科技集團(tuán)股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 焦作市科彤知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 代理人 楊明環(huán)
地址 454450河南省焦作市博愛縣文化路(東段)1888號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明屬于聚合物粉末的制備技術(shù)領(lǐng)域,公開了一種高K值低殘留單體聚合物粉末及其制備方法,包括單體聚合反應(yīng)得到聚合物液體,聚合物液體經(jīng)干燥、粉碎,得到聚合物粉末,將所述聚合物粉末在加熱、負(fù)壓、動(dòng)態(tài)混合,或者加熱、氮?dú)獯祾?、?dòng)態(tài)混合的條件下處理。本發(fā)明的制備方法制得的高K值聚合物粉末殘留單體量低于10ppm,聚合物粉末的外觀為淡黃色至乳白色粉末。??