一種功率器件及其制作方法
基本信息

| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201911338281.0 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(公告)號(hào) | CN113097300A | 公開(公告)日 | 2021-07-09 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN113097300A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-07-09 |
| 分類號(hào) | H01L29/78(2006.01)I;H01L29/739(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I;H01L21/265(2006.01)I;H01L21/336(2006.01)I;H01L21/331(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 陳雪萌;王艷穎;楊林森 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 華潤(rùn)微電子(重慶)有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 上海光華專利事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 劉星 |
| 地址 | 401331重慶市沙坪壩區(qū)西永鎮(zhèn)西永路367號(hào)四樓 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明提供一種功率器件及其制作方法,該方法包括以下步驟:提供一包括第一導(dǎo)電類型外延層的基板;形成第一導(dǎo)電類型阱區(qū)于所述第一導(dǎo)電類型外延層中;形成第一柵極結(jié)構(gòu)與第二柵極結(jié)構(gòu)于所述第一導(dǎo)電類型外延層上;形成分立設(shè)置的且均為第二導(dǎo)電類型的第一、第二及第三體區(qū)于所述第一導(dǎo)電類型外延層中,所述第一導(dǎo)電類型阱區(qū)與所述第二體區(qū)構(gòu)成PN結(jié);形成第一導(dǎo)電類型的第一源區(qū)于所述第一體區(qū)中,形成第一導(dǎo)電類型的第二源區(qū)于所述第三體區(qū)中。本發(fā)明的功率器件及其制作方法在有源區(qū)形成與所述第一導(dǎo)電類型外延層相同導(dǎo)電類型的深阱,使器件的擊穿點(diǎn)改變,避開元胞區(qū)固有的寄生雙極晶體管區(qū),大大提高了器件的雪崩耐量,增加了器件的可靠性。 |





