一種送粉裝置和激光熔覆設(shè)備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201811590822.4 申請日 -
公開（公告）號 CN109536952A 公開（公告）日 2019-03-29
申請公布號 CN109536952A 申請公布日 2019-03-29
分類號 C23C24/10（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 史飛; 高德云; 陸慷; 張明; 龐維旭; 秦祉怡; 王澤旭; 果曉萌 申請（專利權(quán)）人 北京安迪威爾科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京睿派知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 劉鋒;邸巖
地址 100026 北京市昌平區(qū)科技園區(qū)回龍觀鎮(zhèn)朱辛莊北農(nóng)路2號主樓D座611室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種送粉裝置和激光熔覆設(shè)備，所述送粉裝置包括送粉料倉、多個(gè)送粉噴嘴、送粉管道組件、連接部件和氣固分離部件，其中送粉管道組件與所述送粉料倉連接，所述送粉噴嘴通過連接部件與所述送粉管道組件連接，氣固分離部件設(shè)置于所述送粉管道組件內(nèi)。本發(fā)明實(shí)施例可以在滿足較大合金粉末量需求的同時(shí)，避免過量的載氣從送粉噴嘴噴出破壞合金粉料層的平整度。