一種用于評價坩堝內(nèi)原料裝配均勻性的裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202120741787.2 申請日 -
公開（公告）號 CN215004810U 公開（公告）日 2021-12-03
申請公布號 CN215004810U 申請公布日 2021-12-03
分類號 G01N5/00（2006.01）I 分類 測量；測試;
發(fā)明人 方帥;趙建國;趙樹春;李博 申請（專利權(quán)）人 上海天岳半導(dǎo)體材料有限公司
代理機構(gòu) 北京君慧知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 馮妙娜
地址 201306上海市浦東新區(qū)中國（上海）自由貿(mào)易試驗區(qū)臨港新片區(qū)鴻音路1211號10幢301室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請公開了一種用于評價坩堝內(nèi)原料裝配均勻性的裝置，其包括：機架，所述機架的底壁上設(shè)置有支撐桿，所述支撐桿上方設(shè)置有支撐臺，所述支撐臺與所述支撐桿轉(zhuǎn)動連接或所述支撐臺與所述機架的底壁轉(zhuǎn)動連接，所述支撐臺用于放置坩堝，所述坩堝、所述支撐臺及所述支撐桿共中心軸線設(shè)置；測試組件，所述測試組件包括至少三個測試計，每個所述測試計位于同一水平高度上，并沿所述坩堝周向分布，所述測試計的一端連接在所述機架的內(nèi)側(cè)壁上，另一端能夠接觸到所述坩堝的外側(cè)壁；或測試組件，所述測試組件包括至少三個沿所述支撐桿周向分布的測試計，所述測試計的一端連接在所述機架的底壁上，另一端能夠接觸到所述支撐臺的下表面。