碳化硅晶圓化學機械拋光裝置
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202121736673.5 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN216030138U | 公開(公告)日 | 2022-03-15 |
| 申請公布號 | CN216030138U | 申請公布日 | 2022-03-15 |
| 分類號 | B24B37/00(2012.01)I;B24B37/11(2012.01)I;B24B37/27(2012.01)I;B24B37/34(2012.01)I | 分類 | 磨削;拋光; |
| 發(fā)明人 | 黃瑾;張潔;林武慶;汪良 | 申請(專利權)人 | 湖南三安半導體有限責任公司 |
| 代理機構 | 北京超凡宏宇專利代理事務所(特殊普通合伙) | 代理人 | 嚴誠 |
| 地址 | 410000湖南省長沙市高新開發(fā)區(qū)長沙岳麓西大道2450號環(huán)創(chuàng)園B1棟2405房 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本實用新型實施例提供了一種碳化硅晶圓化學機械拋光裝置,涉及碳化硅晶圓拋光技術領域,在拋光頭與晶圓保持器連接時,晶圓保持器能夠在拋光頭的帶動下可活動地抵持于拋光墊,從而在晶圓保持器夾持有碳化硅晶圓的情況下,使得碳化硅晶圓不斷地被拋光墊磨削而拋光,以實現(xiàn)對碳化硅晶圓的拋光。拋光一定時間后,可以使拋光頭與晶圓保持器分離,移動裝置與晶圓保持器連接,移動裝置能夠帶動晶圓保持器遠離拋光墊,從而使得被晶圓保持器所夾持的碳化硅晶圓遠離拋光墊,然后利用清洗裝置清洗碳化硅晶圓、晶圓保持器和拋光墊,在清洗完成后,使得對碳化硅晶圓繼續(xù)進行拋光時,避免了雜質對碳化硅晶圓造成的損傷,進而保證最終成品的表面質量和外延品質。 |





