一種拋光墊

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202023289410.2 申請日 -
公開（公告）號 CN214519539U 公開（公告）日 2021-10-29
申請公布號 CN214519539U 申請公布日 2021-10-29
分類號 B24B37/26（2012.01）I 分類 磨削；拋光;
發(fā)明人 劉敏;王騰;邱瑞英;黃學(xué)良;楊佳佳;張季平 申請（專利權(quán)）人 湖北鼎匯微電子材料有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 430057湖北省武漢市經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)東荊河路1號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開一種拋光墊，包括研磨層，研磨層與直徑為Dw的被研磨材料直接接觸，所述研磨層包括至少兩個同心圓溝槽，定義最內(nèi)側(cè)的同心圓溝槽為第一同心圓，最外側(cè)的同心圓溝槽為第二同心圓；第一同心圓和第二同心圓界定多個研磨區(qū)域，由圓心到研磨層邊緣三個研磨區(qū)的寬度依次為W1,W2,W3，其中第二研磨區(qū)寬度W2滿足：W2＝0.8Dw?0.995Dw；本實用新型通過對拋光墊的不同研磨區(qū)及其溝槽的相關(guān)參數(shù)進(jìn)行綜合設(shè)計，使得本實用新型的拋光墊具有優(yōu)異的綜合性能。