一種拋光墊
基本信息

| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202120177695.6 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)(公告)號(hào) | CN214322989U | 公開(kāi)(公告)日 | 2021-10-01 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN214322989U | 申請(qǐng)公布日 | 2021-10-01 |
| 分類號(hào) | B24B37/26(2012.01)I | 分類 | 磨削;拋光; |
| 發(fā)明人 | 黃學(xué)良;蔡長(zhǎng)益;羅乙杰;桂輝輝;劉敏;楊佳佳;邱瑞英;張季平 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 湖北鼎匯微電子材料有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | - | 代理人 | - |
| 地址 | 430057 湖北省武漢市經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)東荊河路1號(hào)411號(hào)房 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本實(shí)用新型公開(kāi)一種拋光墊,包括拋光層,所述拋光層包括拋光表面和位于拋光表面上的拋光單元,所述拋光單元至少為一個(gè),拋光單元組成拋光單元群,拋光單元群的一端形成接觸表面,接觸表面與被研磨材料直接接觸,每個(gè)拋光單元在接觸表面投影為平行四邊形;多個(gè)拋光單元分別組成第一部分和第二部分,第一部分沿第一方向延伸并均勻間隔,第二部分沿與第一方向平行的方向延伸并均勻間隔;并且,拋光單元的接觸表面的面上具有通道,且包括第一通道和第二通道;本實(shí)用新型拋光墊的結(jié)構(gòu)與限定的拋光單元面積比,有效面積比、有效通道體積比以及有效通道的寬度比等參數(shù)相結(jié)合時(shí),具有優(yōu)異的綜合性能。 |





