一種拋光墊
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202023294359.4 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN214351683U | 公開(公告)日 | 2021-10-08 |
| 申請公布號 | CN214351683U | 申請公布日 | 2021-10-08 |
| 分類號 | B24B37/26(2012.01)I;B24B37/22(2012.01)I | 分類 | 磨削;拋光; |
| 發(fā)明人 | 劉敏;黃學良;邱瑞英;王騰;楊佳佳;張季平 | 申請(專利權(quán))人 | 湖北鼎匯微電子材料有限公司 |
| 代理機構(gòu) | - | 代理人 | - |
| 地址 | 430057湖北省武漢市經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)東荊河路1號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本實用新型公開一種拋光墊,包括研磨層,所述研磨層包括至少兩個同心圓溝槽,定義最內(nèi)側(cè)的同心圓溝槽為第一同心圓,最外側(cè)的同心圓溝槽為第二同心圓;第一同心圓和第二同心圓界定多個研磨區(qū)域,由圓心到研磨層邊緣三個研磨區(qū)的寬度依次為W1,W2,W3,W1/R的范圍為0.01?0.10,W2/R的范圍為0.77?0.96,W3/R的范圍為0.03?0.13,本實用新型通過對拋光墊的不同研磨區(qū)及其溝槽的相關(guān)參數(shù)進行綜合設(shè)計,使得本實用新型的拋光墊具有優(yōu)異的綜合性能。 |





