一種提升光學(xué)薄膜沉積精度的方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202111123009.8 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN113881926B | 公開(kāi)（公告）日 | 2022-06-28 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN113881926B | 申請(qǐng)公布日 | 2022-06-28 |
| 分類號(hào) | C23C14/54（2006.01）I;C23C14/34（2006.01）I;G06F17/10（2006.01）I;G06F30/20（2020.01）I | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 王胭脂;張宇暉;賀洪波;王志皓;陳昌;朱曄新;邵宇川;易葵;邵建達(dá) | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 中國(guó)科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 上海恒慧知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（特殊普通合伙） | 代理人 | - |
| 地址 | 201800上海市嘉定區(qū)清河路390號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 一種提升光學(xué)薄膜沉積精度的方法，包括以下步驟：1）選取敏感度最低的膜層結(jié)構(gòu)進(jìn)行制備；2）鍍膜；3）通過(guò)光性反演技術(shù)得到膜層結(jié)構(gòu)在實(shí)際制備過(guò)程中存在的偏差；4）考慮膜層制備偏差后，重新修改設(shè)計(jì)膜層厚度，并進(jìn)行第二次鍍膜；5）制備得到光性曲線與設(shè)計(jì)光性高度吻合的薄膜。本發(fā)明通過(guò)選擇低敏感度膜層結(jié)構(gòu)、光性反演、厚度誤差修正，提高光學(xué)薄膜在制備過(guò)程中的準(zhǔn)確性和穩(wěn)定性，得到沉積精度更高的光學(xué)薄膜元件。 |
