部分覆蓋的二維碼防偽標簽及其形成方法
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN200810115748.0 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN101615258B | 公開(公告)日 | 2013-03-13 |
| 申請公布號 | CN101615258B | 申請公布日 | 2013-03-13 |
| 分類號 | G06K19/06(2006.01)I | 分類 | 計算;推算;計數(shù); |
| 發(fā)明人 | 沈維;劉佳兵;郭曉衛(wèi);王四平;羅心晶 | 申請(專利權(quán))人 | 銀河聯(lián)動信息技術(shù)(北京)有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 北京嘉和天工知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 銀河聯(lián)動信息技術(shù)(北京)有限公司;卓望信息技術(shù)(北京)有限公司;北京華宇信碼技術(shù)有限公司;卓望信息技術(shù)(北京)有限公司 |
| 地址 | 100080 北京市海淀區(qū)北四環(huán)西路9號銀谷大廈818室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明涉及部分覆蓋的二維碼防偽標簽及其形成方法。具體地,一種部分覆蓋的二維碼防偽標簽,包括:底層,所述底層包括以光學方式可讀取的二維碼;以及可去除的表面覆層,所述可去除的表面覆層覆蓋所述二維碼的部分面積,從而在所述可去除的表面覆層沒有被至少部分地去除之前,所述光學方式可識別的二維碼不能以光學方式讀取。還公開了部分覆蓋的二維碼防偽標簽的示例性形成方法。 |





