一種新型納米射流曝氣裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201920078699.1 申請日 -
公開（公告）號 CN209567865U 公開（公告）日 2019-11-01
申請公布號 CN209567865U 申請公布日 2019-11-01
分類號 C02F3/02（2006.01）I; C02F3/12（2006.01）I; C02F7/00（2006.01）I; C02F1/78（2006.01）I; C02F1/74（2006.01）I; C02F1/72（2006.01）I 分類 水、廢水、污水或污泥的處理;
發(fā)明人 張錫輝; 范小江; 劉楚 申請（專利權(quán)）人 深圳市華遠環(huán)境科技有限公司
代理機構(gòu) 深圳新創(chuàng)友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 清華大學(xué)深圳研究生院; 深圳市華遠環(huán)境科技有限公司; 張家港市華遠環(huán)境科技有限公司
地址 518055 廣東省深圳市南山區(qū)西麗大學(xué)城清華校區(qū)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型提出一種新型納米射流曝氣裝置，包括殼體、進氣系統(tǒng)、進水系統(tǒng)；進氣系統(tǒng)包括進氣管及納米曝氣頭，用于形成高速微米氣泡流，進氣管與殼體相連通，納米曝氣頭位于殼體的內(nèi)部；進水系統(tǒng)與殼體相連通，并且依靠高速微米氣泡流實現(xiàn)自吸式進水；殼體內(nèi)部在水流方向上依次還包括：旋轉(zhuǎn)體、氣液混合室、擴散管及噴水孔；旋轉(zhuǎn)體在高速微米氣泡流的沖擊帶動下進行旋轉(zhuǎn)運動，并且對進入其內(nèi)部的氣泡流進行高速旋轉(zhuǎn)和剪切，以形成納米級氣泡。本實用新型的新型納米射流曝氣裝置，能產(chǎn)生納米級別的氣泡，并且氣泡分布均勻，上浮平均速度小，有助于延長氣泡滯留時間或加強擾動，提高氣體傳質(zhì)的效果。