一種等離子熔覆裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202021846225.6 申請日 -
公開（公告）號 CN212894930U 公開（公告）日 2021-04-06
申請公布號 CN212894930U 申請公布日 2021-04-06
分類號 C23C4/134 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 王元宗;王林彥;宗少民 申請（專利權）人 山東海納等離子科技有限公司
代理機構 濟南知來知識產權代理事務所（普通合伙） 代理人 付素心
地址 250000 山東省濟南市歷下區(qū)山大南路60號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種等離子熔覆裝置，包括底座和直桿，所述直桿豎直設置，且所述直桿底端與所述底座固定連接；所述底座頂部設置有滑動塊，所述滑動塊通過所述底座頂面的凹槽與所述底座滑動連接，所述直桿表面設置有多個線槽；所述直桿外側設置有支架，所述支架一端設置有送粉器，所述送粉器底部設置有熔覆槍架，所述熔覆槍架與所述送粉器底端滑動連接，所述送粉器底端設置有出料口，所述熔覆槍架底部設置有多個熔覆槍，所述出料口與所述熔覆槍對應設置。本實用新型通過設置夾緊架，方便對支架的位置進行固定，調整熔覆槍與工件之間的距離，通過設置熔覆槍架，根據工件的大小隨時更換熔覆槍，能夠準確的為工件涂覆物料。