量子場分布的Trench MOSFET溝槽終端結(jié)構(gòu)及制造方法
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN201310173432.8 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN103280452A | 公開(公告)日 | 2013-09-04 |
| 申請公布號 | CN103280452A | 申請公布日 | 2013-09-04 |
| 分類號 | H01L29/40(2006.01)I;H01L21/28(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 王新 | 申請(專利權(quán))人 | 成都瑞芯電子有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 成都行之專利代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 梁田 |
| 地址 | 610000 四川省成都市高新區(qū)世紀城南路216號天府軟件園D區(qū)6號樓14層 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 量子場分布的TrenchMOSFET溝槽終端結(jié)構(gòu),包括外延層,及位于外延層中深度相同的第一隔離槽和平行于第一隔離槽,且位于第一隔離槽遠離硅片邊界一側(cè)的第二隔離槽;第一隔離槽和第二隔離槽內(nèi)部都有多晶硅電極,所述多晶硅電極與溝槽內(nèi)壁之間有柵氧化層,所述第一隔離槽和第二隔離槽之間連接有短隔離槽。及制造上述結(jié)構(gòu)的制造方法。采用本發(fā)明所述的量子場分布的TrenchMOSFET溝槽終端結(jié)構(gòu)及制造方法,改變了原來終端結(jié)構(gòu)的設(shè)計方法,在隔離槽與隔離槽之間用小溝槽相連接,此結(jié)構(gòu)消除了體區(qū)邊緣的曲率半徑,把體區(qū)終端部分更充分地變?yōu)槠叫衅矫娼Y(jié)。這種結(jié)構(gòu)既不用設(shè)計場板和場限環(huán)結(jié)合結(jié)構(gòu)中的距離難點,而且還節(jié)省了芯片的面積。 |





