STED超分辨顯微技術(shù)中損耗光斑的高質(zhì)量重建方法
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN201610813505.9 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN106291966B | 公開(公告)日 | 2018-07-17 |
| 申請公布號 | CN106291966B | 申請公布日 | 2018-07-17 |
| 分類號 | G02B27/58 | 分類 | 光學(xué); |
| 發(fā)明人 | 龔薇;斯科;吳晨雪 | 申請(專利權(quán))人 | 浙江大學(xué)控股集團(tuán)有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 杭州求是專利事務(wù)所有限公司 | 代理人 | 林超 |
| 地址 | 310000 浙江省杭州市西湖區(qū)智匯眾創(chuàng)中心1號樓801-804室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種STED超分辨顯微技術(shù)中損耗光斑的高質(zhì)量重建方法。不加載樣品光束經(jīng)過均一相位空間光調(diào)制后被物鏡聚焦,在焦平面得理想損耗光斑;加載樣品光束經(jīng)過均一相位空間光調(diào)制后被物鏡聚焦,在位于樣品內(nèi)部的焦平面得畸變損耗光斑;將空間光調(diào)制器的像素點(diǎn)分區(qū),各分區(qū)加載不同的相位值,得到一系列需校正損耗光斑,接著與理想損耗光斑進(jìn)行互相關(guān)計(jì)算和處理,得到各分區(qū)的相位加載最佳值;各分區(qū)經(jīng)過多次迭代處理后完成樣品內(nèi)部損耗光斑的高質(zhì)量重建。本發(fā)明能重建有損耗空心光斑,能在大深度下得到完整而良好的損耗光斑,擴(kuò)展了受激輻射淬滅顯微技術(shù)的應(yīng)用范圍,提高了系統(tǒng)成像深度,提升了系統(tǒng)分辨率與信噪比并優(yōu)化成像質(zhì)量。 |





