非過(guò)濾物理方式阻垢除垢設(shè)備

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202122350810.8 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)(公告)號(hào) CN215946834U 公開(kāi)(公告)日 2022-03-04
申請(qǐng)公布號(hào) CN215946834U 申請(qǐng)公布日 2022-03-04
分類(lèi)號(hào) C02F1/44(2006.01)I;B01D65/02(2006.01)I;C02F101/30(2006.01)N 分類(lèi) 水、廢水、污水或污泥的處理;
發(fā)明人 魏林波;張昱;梁超 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人 西安特拉多姆節(jié)能環(huán)??萍加邢薰?/a>
代理機(jī)構(gòu) 北京安度修典專(zhuān)利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 代理人 楊方成;馬歡萍
地址 710005陜西省西安市經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)未央路170號(hào)賽高城市廣場(chǎng)2號(hào)樓企業(yè)總部大廈13層08室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型提供一種非過(guò)濾物理方式阻垢除垢設(shè)備,屬于水處理設(shè)備制造領(lǐng)域,本實(shí)用新型包括:濾網(wǎng)和多個(gè)表面等離子共振除垢裝置;所述濾網(wǎng)上開(kāi)設(shè)有多個(gè)均勻布置的過(guò)濾孔,多個(gè)所述表面等離子共振除垢裝置安裝于所述過(guò)濾孔邊緣;所述表面等離子共振除垢裝置包括:晶體容腔;該晶體容腔內(nèi)填充有惰性氣體和堿金屬氣體;所述晶體容腔的兩端設(shè)置有電極。本實(shí)用新型的阻垢除垢設(shè)備通過(guò)在濾網(wǎng)的過(guò)濾孔上設(shè)置表面等離子共振除垢裝置,利用外置的電磁波的頻率等于等離子體的特征頻率,使得產(chǎn)生“共振”現(xiàn)象,從而阻止有機(jī)分子粘附于表面等離子共振除垢裝置,從而保證濾網(wǎng)能夠持久無(wú)垢的工作。