一種反應(yīng)室石英支撐盤減薄的裝置
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN202021612282.8 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN212542368U | 公開（公告）日 | 2021-02-12 |
| 申請公布號 | CN212542368U | 申請公布日 | 2021-02-12 |
| 分類號 | H01L21/67(2006.01)I; | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 劉燁 | 申請（專利權(quán)）人 | 陜西宇騰電子科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | - | 代理人 | - |
| 地址 | 710000陜西省西安市雁塔區(qū)長安南路農(nóng)林壹號小區(qū)1號樓1單元1902 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型公開了一種反應(yīng)室石英支撐盤減薄的裝置，包括石英支撐盤，所述石英支撐盤設(shè)置有多個加強(qiáng)筋，所述石英支撐盤的中部開設(shè)有圓孔，所述石英支撐盤厚度為15mm。本實(shí)用新型通過將石英支撐盤1的厚度設(shè)置為15mm，在進(jìn)行加工時，可以更好的適用于不同的薄膜材料，提高適用性。?? |
