一種反應室石英支撐盤減薄的裝置
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202021612282.8 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN212542368U | 公開(公告)日 | 2021-02-12 |
| 申請公布號 | CN212542368U | 申請公布日 | 2021-02-12 |
| 分類號 | H01L21/67(2006.01)I; | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 劉燁 | 申請(專利權)人 | 陜西宇騰電子科技有限公司 |
| 代理機構 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 710000陜西省西安市雁塔區(qū)長安南路農林壹號小區(qū)1號樓1單元1902 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本實用新型公開了一種反應室石英支撐盤減薄的裝置,包括石英支撐盤,所述石英支撐盤設置有多個加強筋,所述石英支撐盤的中部開設有圓孔,所述石英支撐盤厚度為15mm。本實用新型通過將石英支撐盤1的厚度設置為15mm,在進行加工時,可以更好的適用于不同的薄膜材料,提高適用性。?? |





