一種原位拉曼光譜檢測的蒸發(fā)鍍膜設(shè)備
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN202021975812.5 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN212270222U | 公開（公告）日 | 2021-01-01 |
| 申請公布號 | CN212270222U | 申請公布日 | 2021-01-01 |
| 分類號 | C23C14/24(2006.01)I | 分類 | 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 金炯;張金徽;王山 | 申請（專利權(quán)）人 | 浙江賽威科光電科技有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 北京沁優(yōu)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 浙江賽威科光電科技有限公司 |
| 地址 | 313000浙江省湖州市德清縣雷甸鎮(zhèn)白云南路866號9號樓D101室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 一種原位拉曼光譜檢測的蒸發(fā)鍍膜設(shè)備，包括端蓋、熱蒸發(fā)腔體、膜厚檢測機構(gòu)、熱蒸發(fā)機構(gòu)以及真空機構(gòu)，端蓋連接在鍍膜室上，端蓋上設(shè)有拉曼檢測口、光電組件以及觀察窗，熱蒸發(fā)腔體位于端蓋上，膜厚檢測機構(gòu)、膜厚檢測機構(gòu)用于檢測基片鍍膜的厚度，真空機構(gòu)用于將熱蒸發(fā)腔體內(nèi)進行真空，熱蒸發(fā)機構(gòu)包括動力磁力轉(zhuǎn)軸、擋片、母水冷電極、多組子水冷電極以及多個蒸發(fā)舟，蒸發(fā)舟分別連接在母水冷電極與各組子水冷電極之間，動力磁力轉(zhuǎn)軸的一端延伸至熱蒸發(fā)腔體內(nèi)與擋片連接，動力磁力轉(zhuǎn)軸驅(qū)動擋片在水平面上轉(zhuǎn)動以使擋片遮擋任一一個蒸發(fā)舟；本實用新型優(yōu)點在于能夠分別在同腔體內(nèi)對多種不同膜料的熱蒸發(fā)以及能將鍍膜后的基片進行拉曼光譜檢測。?? |
