一種晶圓刻蝕設(shè)備

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201910790216.5 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN110634771A 公開(kāi)（公告）日 2019-12-31
申請(qǐng)公布號(hào) CN110634771A 申請(qǐng)公布日 2019-12-31
分類(lèi)號(hào) H01L21/67（2006.01） 分類(lèi) 基本電氣元件;
發(fā)明人 汪洪安 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 深圳市中科光芯半導(dǎo)體科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 518000 廣東省深圳市龍崗區(qū)龍城街道黃閣坑社區(qū)黃閣北路449號(hào)龍崗天安數(shù)碼創(chuàng)新園二號(hào)廠房B401-W
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)了一種晶圓刻蝕設(shè)備，其結(jié)構(gòu)包括移動(dòng)輪、刻蝕箱、箱蓋、顯示屏、控制箱，刻蝕箱底部安裝有移動(dòng)輪，刻蝕箱頂部設(shè)有箱蓋，控制箱設(shè)在箱蓋側(cè)面并連接在刻蝕箱頂部，控制箱表面安裝有顯示屏，刻蝕箱內(nèi)設(shè)有載物臺(tái)、第一夾具、第二夾具、噴射器、氣缸、Y軸導(dǎo)軌、X軸導(dǎo)軌，載物臺(tái)連接在箱蓋底部，載物臺(tái)的底部?jī)蓚?cè)分別安裝有第一夾具、第二夾具，噴射器設(shè)在載物臺(tái)下方，噴射器底部與氣缸相連接，氣缸安裝在Y軸導(dǎo)軌上，本發(fā)明的有益效果是：通過(guò)噴射吸回一系列快速操作，能夠減少蝕刻液的停留時(shí)間，避免蝕刻液的四處流動(dòng)，且從下往上射出，能夠減少蝕刻液向四周流動(dòng)的概率，會(huì)讓蝕刻液朝下流，因此能夠縮小蝕刻位置不同高度的差異。