一種蒸鍍裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202120041576.8 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN214300322U 公開（公告）日 2021-09-28
申請(qǐng)公布號(hào) CN214300322U 申請(qǐng)公布日 2021-09-28
分類號(hào) C23C14/24（2006.01）I;C23C14/50（2006.01）I;C23C14/54（2006.01）I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 劉高鵬;馬中生;李流民;劉航;唐鵬宇;穆欣炬 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 義烏清越光電科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京三聚陽(yáng)光知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 薛異榮
地址 322000浙江省金華市義烏市北苑街道雪峰西路968號(hào)義烏科技創(chuàng)業(yè)園1號(hào)廠房
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型提供了一種蒸鍍裝置，包括：腔體；位于腔體內(nèi)的蒸鍍?cè)?；位于腔體內(nèi)的樣品載板，樣品載板適于承載待蒸鍍基板的邊緣區(qū)域；位于腔體內(nèi)的調(diào)溫板，調(diào)溫板設(shè)置于樣品載板背離蒸鍍?cè)吹囊粋?cè)，調(diào)溫板中具有間隔的加熱管道和冷卻管道，加熱管道內(nèi)部設(shè)置有加熱件。調(diào)溫板能夠使具有較低最優(yōu)成膜溫度和較高最優(yōu)成膜溫度的功能薄膜均能在最優(yōu)成膜溫度沉積，提高了功能薄膜的薄膜質(zhì)量，從而提高了半導(dǎo)體器件的性能。