一種耐腐蝕鍍膜工藝及其制得的耐腐蝕鍍膜涂層
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202110445447.X | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN113151826B | 公開(公告)日 | 2022-06-17 |
| 申請公布號 | CN113151826B | 申請公布日 | 2022-06-17 |
| 分類號 | C23C28/00(2006.01)I;C23C14/16(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I;C23C16/26(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I;C23C16/50(2006.01)I;C23C16/56(2006.01)I | 分類 | 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 毛昌海;祖全先 | 申請(專利權(quán))人 | 艾瑞森表面技術(shù)(蘇州)股份有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 蘇州華博知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | - |
| 地址 | 215300江蘇省蘇州市昆山市陸家鎮(zhèn)金陽東路28號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種耐腐蝕鍍膜工藝及其制備得到的耐腐蝕鍍膜涂層,包括:對金屬基體表面進行預(yù)處理;在金屬基體表面依次第一沉積Cr結(jié)合層、第一Cr/WC過渡層、第一WC?C:H過渡層,再采用PECVD技術(shù)在所述第一WC?C:H過渡層表面沉積含氫DLC層;用輝光蝕刻工藝蝕刻所述含氫DLC層背離所述第一WC?C:H過渡層的表面;在所述含氫DLC層背離所述第一WC?C:H過渡層的表面依次沉積第二WC?C:H過渡層、第二Cr/WC過渡層、表層,形成所述耐腐蝕鍍膜。本發(fā)明通過采用含氫DLC層作為中間層,具有同時增加涂層的抗腐蝕能力和增強結(jié)合強度的優(yōu)點。 |





