一種可導(dǎo)電濺射靶材表面的快速自清潔工藝

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202111442116.7 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN113857159B 公開(kāi)（公告）日 2022-06-17
申請(qǐng)公布號(hào) CN113857159B 申請(qǐng)公布日 2022-06-17
分類號(hào) B08B7/00（2006.01）I;B08B13/00（2006.01）I;C23C14/34（2006.01）I;C23C14/56（2006.01）I 分類 清潔;
發(fā)明人 毛昌海;祖全先;帥小鋒 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 艾瑞森表面技術(shù)（蘇州）股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 蘇州華博知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 -
地址 215000江蘇省蘇州市昆山市陸家鎮(zhèn)金陽(yáng)東路28號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)了一種可導(dǎo)電濺射靶材表面的快速自清潔工藝，包括以下步驟：在常溫下將濺射鍍膜設(shè)備真空抽至1e?4mBar以內(nèi)，將濺射鍍膜設(shè)備的陰極靶門(mén)全部打開(kāi)，用可以正常起輝的陰極點(diǎn)燃?xì)鍤猓l(fā)生輝光放電，并保持高濺射功率；提高電磁輔助線圈電流以增強(qiáng)磁場(chǎng)，使輝光放電區(qū)域延伸至待清潔靶材表面附近；開(kāi)啟待清潔靶材陰極，在低功率條件下使靶材起輝，待靶材表面放電穩(wěn)定后逐步增大濺射功率并保持預(yù)設(shè)時(shí)長(zhǎng)，即可完成靶材表面自清潔工藝。本發(fā)明提供的自清潔工藝避免拆卸操作，節(jié)省了大量人力和時(shí)間成本，有效提升了工作效率。