一種多層結(jié)構(gòu)涂層的制備方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202210217742.4 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN114293154B 公開(kāi)（公告）日 2022-06-10
申請(qǐng)公布號(hào) CN114293154B 申請(qǐng)公布日 2022-06-10
分類號(hào) C23C14/32（2006.01）I;C23C14/06（2006.01）I;C23C14/54（2006.01）I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 毛昌海;祖全先;帥小鋒 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 艾瑞森表面技術(shù)（蘇州）股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 蘇州威世朋知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 -
地址 215331江蘇省蘇州市昆山市陸家鎮(zhèn)金陽(yáng)東路28號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請(qǐng)涉及一種多層結(jié)構(gòu)涂層的制備方法，該制備方法中提供了增加反應(yīng)氣體M的通入流量、以小電流模式開(kāi)啟第二組B靶材或控制靶材門的方案，解決了應(yīng)用多弧離子鍍膜方法沉積多層結(jié)構(gòu)涂層時(shí)，膜層之間結(jié)合力較弱，容易發(fā)生膜層分離剝落的問(wèn)題。